Samsung Electronics poinformował, że rozpoczęcie produkcji płytek krzemowych w technologii 7 nm LPP (Low Power Plus), przy produkcji zostanie wykorzystana technologia litografii ultrafioletowej EUV. (więcej…)
Pracę nad tym rozwiązaniem trwały bardzo długo, jednocześnie koszty jakie przekroczyły wszystkie pierwotne założenia. Jednak mimo tych przeszkód prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) dobiegają końca.
(więcej…)
Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystora, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym. (więcej…)