Czas na masową produkcję EUV.

Pracę nad tym rozwiązaniem trwały bardzo długo,  jednocześnie koszty jakie przekroczyły wszystkie pierwotne założenia. Jednak mimo tych przeszkód prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) dobiegają końca.

Czytaj więcej o Czas na masową produkcję EUV.

Nowy fotorezystor dla technologii 20 nanometrów

Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystora, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym. Czytaj więcej o Nowy fotorezystor dla technologii 20 nanometrów